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中科院微电子所22纳米CMOS工艺研发取得突破万芳

发布时间:2020-02-14 12:30:44 阅读: 来源:排气阀厂家

中科院微电子所22纳米 CMOS工艺研发取得突破

近日,中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心在22纳米 CMOS关键技术先导研发上取得突破性进展,在国内首次采用后高K工艺成功研制出包含先进的高K/金属栅模块的22纳米栅长MOSFETs,器件性能表现良好。22 纳米 CMOS技术是全球正在研究开发的最新一代集成电路制造工艺,各国都投入了巨大资金力争抢占技术制高点:Intel开发的基于三栅器件结构的处理器已于近期实现量产;IBM联盟也于近期发布了采用22纳米工艺生产的SRAM芯片;Global Foundries,IMEC,三星,Toshiba和台积电也发布了各自的22纳米制程技术。我国于2009年在国家科技重大专项支持下开始22纳米关键技术先导研发,作为该项目牵头单位,中科院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心与项目联合承担单位北京大学、清华大学、复旦大学和中科院微系统所的项目组共同开展了系统的联合攻关。经过3年多辛勤努力,该项目于近期取得了突破性进展。

在22纳米 CMOS技术节点,为了降低成本、减少功耗和提高器件性能,高K/金属栅技术被广泛引入,同时也对器件制造工艺及集成技术带来了很大的挑战,主要包括了以下几个方面:一是界面工程,需要研究高K材料与硅沟道的界面态特性、应力引入控制机制、影响载流子迁移率的原理机制等;二是栅工程,对高性能的NMOS和PMOS器件而言,筛选出具有合适功函数的金属栅材料及堆叠结构避免费米钉扎效应,降低刻蚀工艺及集成技术的难度至关重要;三是需要实现超浅结的源漏工程,确保器件具有良好的短沟道效应抑制特性和欧姆接触。针对上述核心问题,项目组开展了系统的研究工作,在N型和P型MOS电容上均获得了EOT≤8.5 ?,漏电流降低3个数量级,金属栅有效功函数距硅带隙边距离≤0.2eV的良好电学结果。成功研制出器件性能良好的22纳米栅长MOSFET器件 (图1)。其中,NMOS和PMOS的阈值电压分别达到工业要求的0.3V 和-0.28V左右,在?Vdd?= 1V时饱和导通电流Ion (在没有使用应变硅增强技术的条件下)分别达到465?A/?m和368?A/?m,短沟道效应得到很好的改善,亚阈值摆幅(SS)和漏致势垒降低(DIBL)控制在85mV/dec和65mV以内(图2),均满足工业应用标准。

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